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光学器件及光电仪器
E5500石英产品高精度双折射测量干涉仪
迈璀半导体最新推出的E5500石英产品高精度双折射测量干涉仪能够以高精度测量双折射及其方位角。通过采用光学外差干涉技术，实现了高灵敏度和高精度。所有操作均由计算机控制，采用菜单驱动方式，便于操作，且测量结果不受操作者技能水平的影响。通过执行校准操作，不仅可以实现更高重复性的测量，还可以实现各种应用测量。
通过操控样品台，可以测量二维双折射（分布）。可以安装倾斜台以测量掠入射条件下的双折射。样品台由计算机自动控制，测量结果以二维图像形式直观显示。
通过操控样品台，可以测量二维双折射（分布）。可以安装倾斜台以测量掠入射条件下的双折射。样品台由计算机自动控制，测量结果以二维图像形式直观显示。
一、核心特点
高灵敏度与高速测量：光学外差技术实现 0.1 秒/点 的测量速度。
高精度与高重复性：分辨率达 0.01 nm，样品静止状态下完成高重复性测量。
大样品兼容性：支持大尺寸样品测试。
灵活升级：通过更换样品台可升级为在线安装模式，适应产线集成需求。
二、应用领域
液晶显示器：相位差膜、摩擦膜等。
铁电（反铁电）液晶取向特性评估。
磁光盘基板。DVD、CD 等的光学拾取组件：偏振分束器等。
光学玻璃（如透镜、棱镜）的应变测量。
光学材料的高精度光弹性常数测量。
聚合物材料研究（薄膜、光学元件如透镜等）。
三、性能参数
四、配置选项
根据需求可选配不同样品台与扩展模块考：
